PANTALLA PLANA

Rhosonics ayuda a la industria de las pantallas planas a utilizar la tecnología ultrasónica para realizar mediciones en línea y en tiempo real, a través de las cuales es posible optimizar los procesos, lo que permite un funcionamiento más seguro, fiable, sostenible y rentable. Así es como Rhosonics contribuye a un mundo inteligente y ecológico.

Rhosonics Analytical ofrece soluciones para el análisis en línea en la mezcla de productos químicos. Al servicio de prácticamente todas las industrias electrónicas, los analizadores en línea están disponibles para las siguientes aplicaciones.

Producciones LCD y TFT

Las empresas utilizan ampliamente los analizadores de procesos en línea Rhosonics en la producción de pantallas planas LCD. Dentro de esta industria, las empresas suelen utilizar grabadores (ITO-Etch), decapantes y reveladores (como TMAH). La industria da cada vez más prioridad a la medición de la fotorresistencia.

Rhosonics ha desarrollado un dispositivo especial para medir la TMAH+PR (CCM B32). A continuación, las empresas utilizan decapantes para exfoliar la fotorresistencia que queda en el proceso de fotolitografía. El ácido cítrico se utiliza a menudo como sustituto del ácido acético, que suele dejar un fuerte olor en el cuarto oscuro. Rhosonics puede medir en línea este tipo de líquidos, incluidos detergentes y tensioactivos.

Fotolitografía

La medición de la concentración es importante en el proceso de pantallas planas para evitar problemas en los procesos de limpieza o grabado húmedo.

Paso de limpieza

Después de la etapa del proceso, las empresas deben limpiar los materiales utilizados con productos químicos para evitar la contaminación en la etapa siguiente. El objetivo de limpieza es eliminar los residuos del pasos anteriores que podrían afectar al rendimiento de pasos. Además, los productos químicos de limpieza debe disponer de las concentraciones adecuadas para limpiar la superficie de la oblea. De lo contrario, las obleas pueden contener materiales orgánicos/inorgánicos indeseables. Además, wLas superficies que no se hayan limpiado correctamente no tienen la calidad deseada cuando la producción línea se ha completado. Como resultado, el producto se clasificará como defectuoso o se venderá como un chip de menor rendimiento.

Etapa de desarrollo

Las empresas revelan las obleas expuestas en baños de inmersión o por pulverización. Dependiendo del tipo de resistencia (negativa o positiva), la zona expuesta se elimina o permanece. Este paso es importante para crear un patrón de laca perfecto y controlar qué parte del sustrato se graba. El patrón de la laca positiva o negativa debe ser el mismo que el deseado.

De lo contrario, el siguiente paso elimina las zonas equivocadas del sustrato, dando lugar a un producto ineficaz. Como ocurre con cualquier en el proceso fotolitográfico, la precisión es clave para lograr los resultados deseados en la fase de desarrollo. La concentración de el revelador fotorresistente (por ejemplo, TMAH) debe ser dentro de un rango óptimo para eliminar eficazmente la fotorresistencia en la zona prevista.

Por ejemplo, una solución típica de TMAH debería tener una concentración entre 2,38% y 2,62%. Una concentración analizador en tiempo real ayuda a mantener propiedades químicas bajo control y funcionando eficazmente.

Etapa de grabado húmedo

El mordentado húmedo (o mordentado isotrópico) es un método rápido de mordentado de materiales. Las empresas utilizan diversos tipos de productos químicos para crear un patrón en el sustrato de un material determinado (normalmente obleas de silicio). En la actualidad, existe una tendencia hacia chipsets más pequeños y compactos, por lo que el reto de este proceso es crear patrones más precisos y complejos en el sustrato utilizando las concentraciones químicas adecuadas.

elección de productos para esta industria

concentración química
contador

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