Rhosonics ayuda a la industria de pantallas planas a utilizar la tecnología ultrasónica para realizar mediciones en línea y en tiempo real, a través de las cuales es posible optimizar los procesos, lo que permite un funcionamiento más seguro, fiable, sostenible y rentable. Así es como Rhosonics contribuye a un mundo inteligente y ecológico.

Rhosonics Analytical ofrece soluciones para el análisis en línea en la mezcla de productos químicos. Al servicio de prácticamente todas las industrias electrónicas, los analizadores en línea están disponibles para las siguientes aplicaciones.

Medidor de concentración química CCM

TMAH+PR+CO3

Producciones LCD y TFT

Las empresas utilizan ampliamente los analizadores de procesos en línea Rhosonics en la producción de pantallas planas LCD. En este sector, las empresas suelen utilizar grabadores (ITO-Etch), decapantes y reveladores (como el TMAH). La industria está dando cada vez más prioridad a la medición de fotorresistencias.

Rhosonics ha desarrollado un dispositivo especial para medir la TMAH+PR (CCM B32). A continuación, las empresas utilizan decapantes para exfoliar los restos fotorresistentes del proceso fotolitográfico. El ácido cítrico se utiliza a menudo como sustituto del ácido acético, que suele dejar un fuerte olor en el cuarto oscuro. Rhosonics puede medir en línea este tipo de líquidos, incluidos detergentes y tensioactivos.

Fotolitografía

La medición de la concentración es importante en el proceso de pantallas planas para evitar problemas en los procesos de limpieza o grabado húmedo.

Paso de limpieza

Tras el paso del proceso, las empresas deben limpiar los materiales utilizados con productos químicos para evitar la contaminación en el siguiente paso. El objetivo de la limpieza es eliminar los residuos de las pasos anteriores que podrían afectar al rendimiento de los siguientes. siguientes. Además, los productos químicos de limpieza deben tener las concentraciones adecuadas para limpiar limpiar eficazmente la superficie de la oblea. De lo contrario, las obleas pueden contener materiales orgánicos/inorgánicos indeseables. Además, las obleasAdemás, las obleas que no se hayan limpiado calidad deseada cuando finalice la línea de producción. Como resultado, el producto se clasificará como defectuoso o se venderá como un chip con un rendimiento inferior.

Etapa de desarrollo

Las empresas revelan las obleas expuestas en baños de inmersión o por pulverización. Dependiendo del tipo de resistencia (negativa o positiva), la zona expuesta se elimina o permanece. Este paso es importante para crear un patrón de laca perfecto y controlar qué parte del sustrato se graba. El patrón de la laca positiva o negativa debe ser el mismo que el deseado.

De lo contrario, el siguiente paso eliminará las zonas del sustrato, dando como resultado un producto ineficaz. Como en cualquier paso de producción en el proceso fotolitográfico, la precisión es clave para lograr los resultados deseados en la fase de desarrollo. La concentración de revelador fotorresistente (por ejemplo, TMAH) debe estar estar dentro de un rango óptimo para eliminar la fotorresistencia en la zona deseada.

Por ejemplo, una solución típica de TMAH debe tener una concentración entre el 2,38% y el 2,62%. Un analizador preciso en tiempo real ayuda a mantener las propiedades químicas bajo control y funcionando eficazmente.

Etapa de grabado húmedo

El grabado húmedo (o isotrópico) es un método rápido de grabado de materiales. Las empresas utilizan diversos tipos de productos químicos para crear un patrón en el sustrato de un material determinado (normalmente obleas de silicio). En la actualidad, existe una tendencia hacia chipsets más pequeños y compactos, por lo que el reto de este proceso es crear patrones más precisos y complejos en el sustrato utilizando las concentraciones químicas adecuadas.

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