{"id":6489,"date":"2024-11-22T09:41:03","date_gmt":"2024-11-22T08:41:03","guid":{"rendered":"https:\/\/rhosonics.com\/?p=6489"},"modified":"2024-12-04T11:55:06","modified_gmt":"2024-12-04T10:55:06","slug":"measuring-cmp-slurry-with-the-rhosonics-ccm","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/rhosonics.com\/pt-br\/insight\/blog\/medicao-de-lama-cmp-com-o-rhosonics-ccm\/","title":{"rendered":"Medi\u00e7\u00e3o de lama de CMP com o Rhosonics CCM"},"content":{"rendered":"<div class=\"fusion-fullwidth fullwidth-box fusion-builder-row-1 fusion-flex-container has-pattern-background has-mask-background nonhundred-percent-fullwidth non-hundred-percent-height-scrolling\" style=\"--awb-border-radius-top-left:0px;--awb-border-radius-top-right:0px;--awb-border-radius-bottom-right:0px;--awb-border-radius-bottom-left:0px;--awb-flex-wrap:wrap;\" ><div class=\"fusion-builder-row fusion-row fusion-flex-align-items-flex-start fusion-flex-content-wrap\" style=\"max-width:1331.2px;margin-left: calc(-4% \/ 2 );margin-right: calc(-4% \/ 2 );\"><div class=\"fusion-layout-column fusion_builder_column fusion-builder-column-0 fusion_builder_column_1_1 1_1 fusion-flex-column\" style=\"--awb-bg-size:cover;--awb-width-large:100%;--awb-margin-top-large:0px;--awb-spacing-right-large:1.92%;--awb-margin-bottom-large:20px;--awb-spacing-left-large:1.92%;--awb-width-medium:100%;--awb-order-medium:0;--awb-spacing-right-medium:1.92%;--awb-spacing-left-medium:1.92%;--awb-width-small:100%;--awb-order-small:0;--awb-spacing-right-small:1.92%;--awb-spacing-left-small:1.92%;\"><div class=\"fusion-column-wrapper fusion-column-has-shadow fusion-flex-justify-content-flex-start fusion-content-layout-column\"><div class=\"fusion-text fusion-text-1\"><p>No mundo acelerado da fabrica\u00e7\u00e3o de semicondutores, a precis\u00e3o e a efici\u00eancia s\u00e3o fundamentais. O polimento qu\u00edmico-mec\u00e2nico (CMP) \u00e9 um processo cr\u00edtico que garante a produ\u00e7\u00e3o de wafers de sil\u00edcio de alta qualidade, os blocos de constru\u00e7\u00e3o da eletr\u00f4nica moderna. O controle da composi\u00e7\u00e3o da pasta de CMP durante esse processo \u00e9 essencial para obter a qualidade desejada do wafer.<\/p>\n<p><strong>Os desafios do monitoramento de polpa de CMP<\/strong><\/p>\n<p>A pasta de CMP \u00e9 uma mistura complexa de \u00e1gua, part\u00edculas abrasivas e produtos qu\u00edmicos. Sua composi\u00e7\u00e3o precisa pode afetar significativamente o processo de polimento e, por fim, a qualidade final do wafer. Portanto, o monitoramento em tempo real da composi\u00e7\u00e3o da pasta \u00e9 fundamental para manter a consist\u00eancia e otimizar o processo de CMP.<\/p>\n<p>Os m\u00e9todos tradicionais de monitoramento da polpa de CMP geralmente envolvem amostragem off-line e an\u00e1lise laboratorial, que n\u00e3o s\u00f3 consomem muito tempo e m\u00e3o de obra, mas tamb\u00e9m n\u00e3o refletem com precis\u00e3o as condi\u00e7\u00f5es em tempo real da polpa durante o processo de polimento. Como resultado, os ajustes baseados nessas an\u00e1lises podem ser feitos tarde demais, levando ao desperd\u00edcio de recursos e a resultados abaixo do ideal.<\/p>\n<p><strong>Apresentando a tecnologia Rhosonics<\/strong><\/p>\n<p>A Rhosonics oferece uma solu\u00e7\u00e3o inovadora para o monitoramento em linha e em tempo real de polpas de CMP. Nossa tecnologia inovadora utiliza uma combina\u00e7\u00e3o exclusiva de medi\u00e7\u00f5es ultrass\u00f4nicas e de condutividade para fornecer dados precisos e cont\u00ednuos sobre a composi\u00e7\u00e3o da pasta. Esse feedback em tempo real permite que os fabricantes de semicondutores mantenham o controle sobre o processo de CMP, resultando em melhor qualidade do wafer, redu\u00e7\u00e3o do desperd\u00edcio e maior efici\u00eancia.<\/p>\n<\/div><div class=\"fusion-image-element\" style=\"text-align:center;--awb-caption-title-font-family:var(--h2_typography-font-family);--awb-caption-title-font-weight:var(--h2_typography-font-weight);--awb-caption-title-font-style:var(--h2_typography-font-style);--awb-caption-title-size:var(--h2_typography-font-size);--awb-caption-title-transform:var(--h2_typography-text-transform);--awb-caption-title-line-height:var(--h2_typography-line-height);--awb-caption-title-letter-spacing:var(--h2_typography-letter-spacing);\"><span class=\"fusion-imageframe imageframe-none imageframe-1 hover-type-none\" style=\"border-radius:15px;\"><img decoding=\"async\" width=\"750\" height=\"500\" title=\"B30 Tela com novo logotipo CMP H2O2(2)\" src=\"https:\/\/rhosonics.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/B30-New-Logo-Screen-CMP-H2O22-png.avif\" alt class=\"img-responsive wp-image-6517\" srcset=\"https:\/\/rhosonics.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/B30-New-Logo-Screen-CMP-H2O22-200x133.avif 200w, https:\/\/rhosonics.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/B30-New-Logo-Screen-CMP-H2O22-400x267.avif 400w, https:\/\/rhosonics.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/B30-New-Logo-Screen-CMP-H2O22-600x400.avif 600w, https:\/\/rhosonics.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/B30-New-Logo-Screen-CMP-H2O22-png.avif 750w\" sizes=\"(max-width: 640px) 100vw, 750px\" \/><\/span><\/div><div class=\"fusion-text fusion-text-2\" style=\"--awb-margin-top:25px;\"><p>Nosso <a href=\"https:\/\/rhosonics.com\/pt-br\/produtos\/medidor-de-concentracao-quimica\/\"><strong>Medidor de concentra\u00e7\u00e3o qu\u00edmica (CCM)<\/strong><\/a> foi projetado para operar em linha, permitindo que a lama flua pelo sistema antes de chegar \u00e0s m\u00e1quinas de polimento. Essa configura\u00e7\u00e3o oferece uma vantagem significativa em rela\u00e7\u00e3o aos m\u00e9todos tradicionais de amostragem, pois permite o monitoramento e o ajuste cont\u00ednuos. Com o CCM, os fabricantes obt\u00eam insights sobre a densidade, a concentra\u00e7\u00e3o e os s\u00f3lidos suspensos da polpa em tempo real - capacidades antes consideradas inating\u00edveis.<\/p>\n<p><strong>Entendendo a medi\u00e7\u00e3o ultrass\u00f4nica<\/strong><\/p>\n<p>O sistema ultrass\u00f4nico no CCM Rhosonics opera usando uma configura\u00e7\u00e3o de reflex\u00e3o com dois sensores posicionados um em frente ao outro. Um elemento piezoel\u00e9trico operando a 2 MHz gera ondas de ultrassom. Quando essas ondas encontram a lama, parte do ultrassom \u00e9 refletida na interface de fase, enquanto parte da energia \u00e9 absorvida pela lama. Esse comportamento de reflex\u00e3o serve como uma \"impress\u00e3o digital\" da pasta, pois cada l\u00edquido tem sua pr\u00f3pria velocidade de som. A diferen\u00e7a na energia do sinal entre os dois materiais \u00e9 quantificada como o coeficiente de reflex\u00e3o (R), a partir do qual a imped\u00e2ncia ac\u00fastica do l\u00edquido \u00e9 calculada usando a f\u00f3rmula de Sir Rayleigh.<\/p>\n<p>A velocidade do som, calculada a partir do tempo de percurso do sinal de ultrassom, \u00e9 outro par\u00e2metro essencial. Ela representa o tempo que o sinal leva para atravessar o meio, do emissor ao receptor. Esse valor \u00e9 um indicativo da composi\u00e7\u00e3o exclusiva da pasta, o que nos permite avaliar a concentra\u00e7\u00e3o e o tipo de part\u00edculas presentes. Ao determinar a imped\u00e2ncia ac\u00fastica e a velocidade do som, podemos calcular com precis\u00e3o a densidade aparente da pasta, fornecendo um perfil em tempo real de sua composi\u00e7\u00e3o.<\/p>\n<p>Essa abordagem de medi\u00e7\u00e3o ultrass\u00f4nica \u00e9 um divisor de \u00e1guas para o monitoramento de CMP, pois fornece insights que v\u00e3o al\u00e9m dos meros n\u00edveis de concentra\u00e7\u00e3o. Ela tamb\u00e9m permite que a Rhosonics me\u00e7a propriedades que as ferramentas da concorr\u00eancia n\u00e3o conseguem medir - tornando o CCM o \u00fanico dispositivo do mercado capaz de fazer uma an\u00e1lise t\u00e3o abrangente em tempo real.<\/p>\n<p><strong>Medi\u00e7\u00e3o de condutividade para maior precis\u00e3o<\/strong><\/p>\n<p>Juntamente com a medi\u00e7\u00e3o ultrass\u00f4nica, o sistema de condutividade do CCM apresenta uma bobina de acionamento e uma bobina de detec\u00e7\u00e3o. A bobina de acionamento, energizada com corrente alternada (CA), gera um campo magn\u00e9tico que induz correntes no fluido condutor. Essas correntes produzem um campo magn\u00e9tico secund\u00e1rio, que \u00e9 detectado pela bobina de detec\u00e7\u00e3o. A intensidade do sinal induzido se correlaciona com a condutividade do fluido e \u00e9 convertida em um valor de condutividade.<\/p>\n<p>Os dados de condutividade complementam as medi\u00e7\u00f5es ultrass\u00f4nicas, fornecendo informa\u00e7\u00f5es sobre a composi\u00e7\u00e3o qu\u00edmica da pasta, incluindo a concentra\u00e7\u00e3o de produtos qu\u00edmicos espec\u00edficos, como o per\u00f3xido de hidrog\u00eanio (H\u2082O\u2082). Ao contr\u00e1rio dos m\u00e9todos tradicionais, que geralmente se concentram em um par\u00e2metro de cada vez, o CCM da Rhosonics captura v\u00e1rios aspectos da composi\u00e7\u00e3o da pasta simultaneamente, permitindo uma compreens\u00e3o muito mais abrangente do processo de CMP.<\/p>\n<p><strong>Benef\u00edcios exclusivos da tecnologia Rhosonics<\/strong><\/p>\n<p>O CCM da Rhosonics oferece v\u00e1rios benef\u00edcios que o tornam um recurso inestim\u00e1vel para os fabricantes de semicondutores:<\/p>\n<ul>\n<li><strong>Monitoramento em linha e em tempo real<\/strong>: Fornece dados cont\u00ednuos sobre a composi\u00e7\u00e3o da pasta, permitindo que os fabricantes fa\u00e7am ajustes imediatos conforme necess\u00e1rio. Esse recurso permite um controle mais din\u00e2mico do processo de CMP, evitando problemas antes que eles afetem a qualidade do wafer.<\/li>\n<li><strong>Precis\u00e3o e versatilidade inigual\u00e1veis<\/strong>: Ao medir v\u00e1rios par\u00e2metros, como densidade, concentra\u00e7\u00e3o e n\u00edveis qu\u00edmicos espec\u00edficos, o CCM da Rhosonics supera as ferramentas tradicionais, que podem se concentrar em apenas uma concentra\u00e7\u00e3o, como H\u2082O\u2082.<\/li>\n<li><strong>Melhoria da qualidade do wafer<\/strong>: Garante a consist\u00eancia da composi\u00e7\u00e3o da pasta, resultando em wafers de maior qualidade e com menos defeitos. Os dados em tempo real permitem que os operadores fa\u00e7am o ajuste fino do processo de CMP e mantenham as condi\u00e7\u00f5es ideais necess\u00e1rias para uma produ\u00e7\u00e3o superior de wafers.<\/li>\n<li><strong>Redu\u00e7\u00e3o de desperd\u00edcio e efici\u00eancia de custos<\/strong>: Otimiza o uso da lama e minimiza o desperd\u00edcio, monitorando e controlando com precis\u00e3o a composi\u00e7\u00e3o da lama. Essa efici\u00eancia n\u00e3o apenas reduz os custos de material, mas tamb\u00e9m contribui para pr\u00e1ticas de fabrica\u00e7\u00e3o sustent\u00e1veis.<\/li>\n<li><strong>Economia de energia<\/strong>: Ao permitir o transporte de slurry concentrado, que pode ser dilu\u00eddo no local, a tecnologia Rhosonics apoia iniciativas de economia de energia. Essa abordagem reduz os requisitos de energia associados ao transporte e ao manuseio da pasta pr\u00e9-dilu\u00edda.<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong>Inovando no monitoramento de CMP<\/strong><\/p>\n<p>O Rhosonics CCM \u00e9 mais do que apenas uma ferramenta de monitoramento; ele representa uma mudan\u00e7a de paradigma no gerenciamento de polpas de CMP. Os m\u00e9todos tradicionais s\u00e3o insuficientes porque n\u00e3o t\u00eam a capacidade de monitorar em tempo real e n\u00e3o conseguem captar toda a complexidade da composi\u00e7\u00e3o da polpa. Durante uma apresenta\u00e7\u00e3o recente na Confer\u00eancia ICPT em Wiesbaden, alguns participantes questionaram o que torna o CCM superior aos m\u00e9todos existentes. A resposta est\u00e1 em sua capacidade exclusiva de medir v\u00e1rios par\u00e2metros com altos n\u00edveis de precis\u00e3o, em tempo real e em diversas composi\u00e7\u00f5es.<\/p>\n<p>Nossa abordagem ao monitoramento de pasta de CMP n\u00e3o tem precedentes - muitos no setor n\u00e3o sabiam que essa medi\u00e7\u00e3o abrangente e em tempo real era poss\u00edvel. Ao tratar a velocidade do som como uma \"impress\u00e3o digital\" exclusiva de cada mistura de pasta, possibilitamos um novo n\u00edvel de precis\u00e3o no controle do processo que tem implica\u00e7\u00f5es de longo alcance na qualidade do wafer e na efici\u00eancia do processo. Essa tecnologia pioneira oferece uma vantagem aos fabricantes de semicondutores, ajudando-os a permanecer competitivos em um mercado altamente exigente.<\/p>\n<p><strong>Para saber mais sobre como a tecnologia Rhosonics pode beneficiar o seu processo de CMP, entre em contato com a nossa equipe hoje mesmo. Estamos aqui para ajud\u00e1-lo a levar suas opera\u00e7\u00f5es de fabrica\u00e7\u00e3o de semicondutores para o pr\u00f3ximo n\u00edvel.<\/strong><\/p>\n<\/div><div ><a class=\"fusion-button button-flat fusion-button-default-size button-default fusion-button-default button-1 fusion-button-default-span fusion-button-default-type\" target=\"_self\" href=\"https:\/\/rhosonics.com\/pt-br\/contato-2\/\"><span class=\"fusion-button-text awb-button__text awb-button__text--default\">Entre em contato conosco<\/span><\/a><\/div><\/div><\/div><\/div><\/div>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>O polimento qu\u00edmico-mec\u00e2nico (CMP) \u00e9 um processo cr\u00edtico que garante a produ\u00e7\u00e3o de wafers de sil\u00edcio de alta qualidade, os blocos de constru\u00e7\u00e3o da eletr\u00f4nica moderna. 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