A Rhosonics ajuda o setor de telas planas a usar a tecnologia ultrassônica para medições em linha e em tempo real, por meio das quais é possível otimizar o processo, permitindo uma operação mais segura, confiável, sustentável e econômica. É assim que a Rhosonics contribui para um mundo inteligente e ecológico.

A Rhosonics Analytical fornece soluções para análise em linha em misturas químicas. Atendendo a praticamente todos os setores eletrônicos, os analisadores em linha estão disponíveis para as seguintes aplicações.

Medidor de concentração química CCM

TMAH+PR+CO3

Produções de LCD e TFT

As empresas utilizam amplamente os analisadores de processo em linha da Rhosonics na produção de telas planas de LCD. Nesse setor, as empresas geralmente utilizam gravadores (ITO-Etch), decapantes e reveladores (como o TMAH). O setor está priorizando cada vez mais a medição do fotorresiste.

A Rhosonics desenvolveu um dispositivo especial para medir o TMAH+PR (CCM B32). Em seguida, as empresas utilizam removedores para esfoliar o fotorresiste remanescente do processo de fotolitografia. O ácido cítrico é frequentemente usado como substituto do ácido acético, que normalmente deixa um forte odor na câmara escura. A Rhosonics é capaz de medir esses tipos de líquidos on-line, incluindo detergentes e surfactantes.

Fotolitografia

A medição da concentração é importante no processo de telas planas para evitar problemas nos processos de limpeza ou gravação úmida.

Etapa de limpeza

Após a etapa do processo, as empresas devem limpar os materiais usados com produtos químicos para evitar a contaminação na etapa seguinte. O objetivo de A limpeza é para remover resíduos do etapas anteriores que podem afetar o desempenho do seguinte etapas. Além disso, os produtos químicos de limpeza deve ter as concentrações corretas para efetivamente limpar a superfície do wafer. Caso contrário, os wafers podem conter materiais orgânicos/inorgânicos indesejáveis. Além disso, wOs filtros que não tiverem sido limpos adequadamente não ter a qualidade desejada quando a produção é concluída. Como resultado, o produto será classificado como defeituoso ou vendido como um chip com desempenho inferior.

Etapa de desenvolvimento

As empresas desenvolvem os wafers expostos em banhos de imersão ou por pulverização. Dependendo do tipo de resistência (negativa ou positiva), a área exposta é removida ou permanece. Essa etapa é importante para criar um padrão de resistência perfeito e para controlar qual parte do substrato é gravada. O padrão da resistência positiva ou da resistência negativa deve ser o mesmo que o desejado.

Caso contrário, a próxima etapa removerá as áreas erradas do substrato, resultando em um produto ineficaz. Como em qualquer etapa de produção no processo de fotolitografia, A precisão é fundamental para alcançar os resultados desejados na fase de desenvolvimento. A concentração de o revelador de fotorresiste (por exemplo, TMAH) deve ser dentro de uma faixa ideal para remover efetivamente o fotorresiste na área pretendida.

Por exemplo, uma solução típica de TMAH deve ter uma concentração entre 2,38% e 2,62%. Um valor preciso O analisador em tempo real ajuda a manter propriedades químicas sob controle e funcionando de forma eficaz.

Etapa de gravação úmida

A corrosão úmida (ou corrosão isotrópica) é um método rápido de corrosão de materiais. As empresas usam vários tipos de produtos químicos para criar um padrão no substrato de um determinado material (geralmente wafers de silício). Atualmente, há uma tendência de chipsets menores e mais compactos, portanto, o desafio desse processo é criar padrões mais precisos e complexos no substrato usando as concentrações químicas corretas.

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