Rhosonics 帮助平板显示器行业利用超声波技术进行在线实时测量，从而优化工艺，实现更安全、更可靠、更可持续和更具成本效益的运营。这就是 Rhosonics 对智能和绿色世界的贡献。

Rhosonics Analytical 为化学混合中的在线分析提供解决方案。在线分析仪几乎服务于所有电子行业，可用于以下应用。

CCM 化学浓度计

TMAH+PR+CO3

LCD 和 TFT 产品

在液晶平板显示器的生产过程中，企业广泛使用 Rhosonics 在线过程分析仪。在该行业中，公司通常使用蚀刻剂（ITO-Etch）、剥离剂和显影剂（如 TMAH).业界越来越重视光阻的测量。

Rhosonics 开发了一种测量 TMAH+PR (CCM B32).然后，公司利用剥离剂剥离光刻工艺中残留的光阻。柠檬酸经常被用来替代醋酸，而醋酸通常会在暗室中留下强烈的气味。Rhosonics 能够在线测量这些类型的液体，包括洗涤剂和表面活性剂。

光刻技术

浓度测量在平板显示器工艺中非常重要，可防止在清洁或湿蚀刻工艺中出现问题。

清洁步骤

在加工步骤结束后，公司必须用化学品清洁使用过的材料，以防止下一步骤受到污染。 目标 清洁的目的是清除 可能影响以下性能的先前步骤 步骤。此外，清洁剂 必须有正确的浓度，以有效地 清洁晶片表面。否则，晶片 可能含有不良的有机/无机材料。此外未经适当清洁的壁纸将 在生产时没有达到预期质量 完成。 因此，产品要么被归类为缺陷产品，要么作为性能较低的芯片出售。

发展步骤

公司在浸泡槽中或通过喷涂对暴露的晶片进行显影。 根据抗蚀剂的类型（负极或正极），暴露的区域会被移除或保留。这一步对于制作完美的抗蚀层图案和控制蚀刻基底的哪个部分非常重要。正抗蚀剂或负抗蚀剂的图案应与所需图案相同。

否则，下一步将删除错误的区域 基质，导致产品失效。与任何 光刻工艺中的生产步骤、 精确是实现预期效果的关键 发展阶段。浓度 光阻显影剂（如 TMAH）应 在最佳范围内有效清除 在指定区域涂上光刻胶。

例如，典型的 TMAH 溶液应包括 浓度介于 2.38% 和 2.62% 之间。准确的 实时分析仪有助于保持 化学特性得到控制并有效发挥作用。

湿蚀刻步骤

湿法蚀刻（或各向同性蚀刻）是一种快速蚀刻材料的方法。 公司使用各种类型的化学品在特定材料（通常是硅片）的基底上绘制图案。 目前，芯片组正朝着更小、更紧凑的方向发展，因此该工艺面临的挑战是如何利用适当的化学浓度在基底上制作出更精确、更复杂的图案。

联系我们 更多信息，请联系 Rhosonics。如果您想进一步了解我们的应用，请查看我们的 客户案例 和 网络研讨会.如需了解有关 Rhosonics 或我们的超声波分析仪的更多信息，请浏览我们的 LinkedIn, Instagram或 推特 page.